用于光刻掩模定位的白光干涉仪

光刻工艺要求对机器运动进行高分辨率和长期稳定的测量，以达到最高精度。Micro-Epsilon 的 IMS5400 白光干涉仪采用特殊的评估算法和主动温度补偿，可实现纳米级精度的掩膜定位。传感器、电缆和电缆套管可在真空环境中使用。