光刻中掩模的定位

光刻工艺要求对机器运动进行高分辨率和长期稳定的测量，以达到最高精度。利用 Micro-Epsilon 的电容传感器，高分辨率可实现掩膜的纳米级精确定位。其真空适用设计使传感器和电缆能够在超高真空环境中使用。